第213章 和平演变

    现在一些有心人士还可以抑制自己的贪心。

    那是因为国家的力量在保护星辰公司，如果……

    抵挡不住了呢？

    “我还是不愿意看见流血事件的发生。”

    张星辰摇了摇头说道。

    “可是老张你有没有想过，随着我们掌握的科技越来越多，早晚我们拥有的力量会凌驾于这颗星球之上的，到时候我们咋办呢？”

    “他们会允许我们的存在吗？”

    “那就和平演变吧，都是一个星球上的人，我们还要一致对外应对外星人呢。”

    张星辰笑着说道。

    “现在我们所掌握的技术还不足以凌驾这颗星球上所有的国家，还是猥琐发育吧。”

    “好了，先制造光刻机吧。”

    张星辰笑着说道。

    没有花费多长时间就在小白的指挥领导下，控制着他手下的机器人就把45纳米的光刻机给制造出来了。

    “看看吧老张，这光刻机一定让你满意，仅仅能生产45纳米的芯片出来。”

    小白有些自豪地说道：“为了卡住45纳米，我可是花费了不少的心思拉。”

    “因为是45纳米的这种低级的光刻机，所以我只能用dUV光，也就是深紫外光。”

    “这种光是不可见光，具体的名字叫做ArF准分子激光，这是它的学名。”

    “ArF准分子激光的波长有183纳米长，在dUV光刻机里边，按照工作方式还可以分为两种。”

    这两种分别是干分式和液浸式，这一次制造dUV光刻机，星辰公司选择的是液侵式。

    液侵式在理论上的上限是可以制造出来七纳米芯片。

    想想就可怕，dUV光刻机竟然可以制造出来七纳米的芯片，第一感觉就是不可能。

    不过没有人会这么做，液侵式的工作方式就是用多重曝光的方式提高精度。

    虽然精密度上来了，但是难度却是大大地提升了。

    每一次曝光一次，精密度就提升一些，但是难度也会自然而然地提升了。

    这样层层累积下去，难度增长的非常大，以至于制造出来的芯片成品率非常低。

    根本就是赔本买卖，只适合于不计成本生产，根本就不能盈利。

    不仅不能盈利，而且还非常赔钱。

    根据现实情况，实际上想要制造出来十纳米以下的芯片，最好的选择还是用EUV光线，也就是极紫光线。

    只不过用了极紫光线的光刻机是EUV光刻机了，要是现在星辰公司拿出来EUV光刻机，那是真的有点吓人了。

    继续……dUV光线被激光发射器发射出来之后，方向会有一定的偏差，这个时候想要扭转这一个偏差，那么就需要光束矫正器进行矫正。

    一般情况下需要三个光束矫正器就可以矫正过来，这里小白为了提高矫正度，使用了四个光束矫正器。

    这样矫正的成都更高，效果也是更好。

    光也是一种量，当光束被矫正过来之后，需要能量控制器进行控制光束的能量。

    根据我们实际需要来设置光束的能量。

    我们需要能量大的话，那就把能量调大一些，需要能量小的话，那么我们就调小一些。>
本章未完，点击下一页继续阅读